Projekt führt Entwicklung der EUV-Lithografie weiter

Unter der Konsortialführerschaft von Carl Zeiss ist ein neues Verbundprojekt gestartet, das vom Bundesministerium für Bildung und Forschung BMBF gefördert wird. Im Fokus steht die EUV-Lithografie, bei der extrem ultraviolettes (EUV) Licht zur Strukturierung von Mikrochips eingesetzt wird. Diese neuartige Technologie soll Ende dieses Jahres die Serienreife erreichen und Strukturen um 20 Nanometer übertragen können. Das Verbundprojekt ETIK („EUV-Projektionsoptik für 14-nm-Auflösung") geht noch einen bedeutsamen Schritt weiter. Es zielt darauf ab, die mit der EUV-Lithografie erreichbare Auflösung auf mindestens 14 Nanometer zu verbessern. Die immer weiter fortschreitende Miniaturisierung von Strukturen ermöglicht die Steigerung der Leistungsfähigkeit von Mikrochips und trägt zu einer Senkung der Kosten für elektronische Geräte bei. Das BMBF wird das auf drei Jahre ausgelegte Projekt mit insgesamt sieben Millionen Euro fördern. cd